PVD / PeCVD / 混合

高性能涂层设备

多功能涂层设备用于超硬低摩擦系数涂层

我们所有的设备都是模块化系统,能满足客户当前的技术配置要求以及未来的配置升级要求。

MpC 1500, MpC 2000

现有技术配置:

  • 电孤
  • 磁控溅射
  • 混合涂层机 电孤 / 磁控溅射
  • 混合涂层 物理涂层/等离子增强化学涂层

性能优势:

  • 新: HPIES 高性能离子刻蚀系统
  • 高效率
  • 灵活
  • 低运行成本
  • 易于操作
  • 快速便捷的靶材更换
  • 极小的厚度公差
  • 本地技术支持
  • 自定义配置
  • 支持涂层工艺多达4个靶座

宽范围的涂层组合:

单层 – 多层 – 梯度层 – 纳米层 – 纳米复合材料 – 复式专用涂层组合::